Laboratorio de Fotónica del Silicio del IFUNAM

Objetivo
En el laboratorio de fotónica de silicio realizamos investigación enfocada al desarrollo y construcción de dispositivos experimentales basados en nanoestructuras de silicio. Para lo anterior, depositamos y caracterizamos materiales de baja dimensionalidad. Entre los que destacan: silicio, nitruro de silicio, óxido de silicio, arseniuro de galio, germanio, óxido de zinc, óxido de zinc dopado con aluminio, óxido de indio extraño, plata, oro, aluminio, cobre y óxido de cobre. El depósito de dichos materiales lo llevamos a cabo mediante las técnicas de sputtering asistido por radiofrecuencia, sputtering de corriente directa, evaporación por efecto Joule al alto vacío y rocío pirolítico asistido por ultrasonido.